

掩模測量
MASK METROLOGY
天準為掩模生產(chǎn)過程中的測量提供高精度、高重復(fù)性系統(tǒng),適用產(chǎn)品包括但不限于COG和PSM。
針對掩模來料測量,天準提供長距離工作物鏡。測量包括掩模版上CD的分布,同時系統(tǒng)提供可見光和紫外光照明,均可用于反射和透射模式。紫外光照明可用于測量最小300nm的特征尺寸,3sigma重復(fù)性通常在納米范圍內(nèi)。
主要特點
Mask CD測量
最大支持14寸掩模以及定制形狀
可配置可見光、紫外光,支持穿透和反射光
SECS/GEM
長期維護成本低,穩(wěn)定可靠

主要特點
Mask CD測量
最大支持6寸掩模
可配置可見光、紫外光,支持穿透和反射光
SECS/GEM
長期維護成本低,穩(wěn)定可靠

主要特點
Mask膜厚,CD測量
可配置可見光、紫外光、紅外光
SECS/GEM
長期維護成本低,穩(wěn)定可靠
